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ULSI硅襯底化學機械研磨技術研究StudyofCMPLappingTechnique
硅錳冶煉渣(zha)簡(jian)稱(cheng)硅錳渣(zha),是冶煉硅錳合(he)金(jin)的(de)過程中(zhong)產生的(de)固體廢渣(zha),由于冶煉工藝的(de)限制,硅錳冶煉渣(zha)中(zhong)含有一定量(liang)的(de)硅錳合(he)金(jin),尤其是硅錳干渣(zha),其中(zhong)的(de)硅錳合(he)金(jin)含量(liang)較高,。
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論(lun)文(wen)天下提供的(de)<八英寸(cun)銅化學機(ji)械(xie)研磨工(gong)藝對硅片腐蝕(shi)的(de)改善(shan);論(lun)文(wen)包括Cu-CMP腐蝕(shi)缺陷研磨頭研磨盤等其他相關內容(rong)論(lun)文(wen)。
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在對單(dan)晶硅片(pian)進行化學(xue)機械研磨(mo)的(de)過程中,通過改變化學(xue)機械研磨(mo)的(de)一(yi)些重要工藝參數(用于超精密硅晶片(pian)表面的(de)化學(xue)機械拋光(guang)(CMP)技(ji)術(shu)研究(jiu)[J].潤滑與密封,2006,31。
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八英寸銅化學機械研磨工藝對硅片腐蝕的改善-收費碩士博士論文-
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《機(ji)械(xie)工(gong)藝師》1995年08期(qi)加入收(shou)藏獲(huo)取高精度氣壓燒結氮化硅陶(tao)瓷(ci)球(qiu)的(de)4秦展田;陶(tao)瓷(ci)球(qiu)研磨加工(gong)過(guo)程的(de)狀(zhuang)態監測[D];天(tian)津大學;2007年5許秦;硬質。
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高精度氣壓燒結氮化硅陶瓷球的研磨技術-《機械工藝師》1995年08期
產品供應球磨機研磨工作(zuo)流(liu)程(cheng)工藝公(gong)司(si)名稱:國昊機械發布日期:2014-04-10有效期限:90天(tian)英文別名:免責聲明:以上所展示的(de)信息由企業(ye)自行提(ti)供,內容的(de)。
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2013年(nian)3月22日-化學機械拋(pao)(pao)光(guang)過程使(shi)用(yong)安裝在剛(gang)性拋(pao)(pao)光(guang)平(ping)盤上(shang)的柔性拋(pao)(pao)光(guang)墊,硅片被壓在拋(pao)(pao)光(guang)目前(qian)常用(yong)的拋(pao)(pao)光(guang)方(fang)法(fa)有以(yi)下幾種(zhong)氧化鋅材料的切割、研磨、拋(pao)(pao)光(guang)工藝(研磨膏(gao)。
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本(ben)發明公(gong)開了一種化(hua)(hua)學機(ji)(ji)械(xie)研磨(mo)工藝(yi)的(de)(de)優化(hua)(hua)方(fang)法(fa),該方(fang)法(fa)包括(kuo):A、提供一實驗樣品,并按照當前的(de)(de)化(hua)(hua)學機(ji)(ji)械(xie)研磨(mo)CMP工藝(yi)參(can)數對實驗樣品進(jin)行CMP工藝(yi)后,采(cai)用等離子體增強化(hua)(hua)學氣(qi)相。
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