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摘(zhai)要(yao):正拋(pao)光是半導體器件生產(chan)中(zhong)的(de)(de)關鍵基本(ben)工藝之一(yi)。在現用(yong)的(de)(de)硅片拋(pao)光4譚(tan)剛;;納米(mi)CeO_2拋(pao)光料對硅晶片進行化學機械拋(pao)光的(de)(de)研究[A];中(zhong)國(guo)微米(mi)。

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氣相二氧化硅_百度百科

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2006年10月18日-五(wu)、工藝(yi)特性(xing)及用(yong)途1.工藝(yi)特性(xing)決定硅石(shi)(shi)工業(ye)應用(yong)(5)研磨業(ye):石(shi)(shi)英巖和(he)石(shi)(shi)英砂巖可制作磨石(shi)(shi)、油石(shi)(shi)玻璃(li)的一系列(lie)優良性(xing)能,如透(tou)明度、機械強度、熱。

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