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[圖文]摘(zhai)要:摘(zhai)要:研究了等離(li)子增強(qiang)化(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)淀積(PECVD)工藝中射頻(pin)(pin)條(tiao)件(jian)(功率和頻(pin)(pin)率)對(dui)氮化(hua)(hua)硅薄膜應力的影響(xiang)。對(dui)于不同射頻(pin)(pin)條(tiao)件(jian)下薄膜的測試結果表明:低頻(pin)(pin)(LF)時氮化(hua)(hua)硅。

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